光刻机这玩意儿被称作“半导体工业王冠上的明珠”，是以台积电、三星、英特尔依赖荷兰ASML的光刻机成为了寰宇顶级芯片供应商，与此同期，芯片也成为了好意思国制裁咱们的“刀”。而咱们我方也不竭堕入一个念念维定式：追逐ASML，造出起始进的EUV光刻机，才算胜仗。

这种“对标”，某种进度上遁藏了中国光刻机产业发展的果然全景。

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事实上，中国的战术远比联想中纯真和求实，走的是一条“多点突破、组合前进”的道路。比如，主攻DUV（深紫外）光刻机，这是现时锻真金不怕火制程芯片的完满主力。上海微电子装备的浸没式光刻机不断攻关，从90纳米向28纳米稳步迈进。别小看这个“锻真金不怕火制程”，它餍足了巨匠70%以上的芯片需求，是产业的压舱石。

而在前沿探索方面，在追逐EUV的同期，中国也在布局可能“换说念超车”的期间。比如纳米压印光刻，国内企业璞璘科技的建树线宽已能作念到小于10纳米，对应传统5纳米制程，何况仍是录用量产。还有电子束光刻，浙江大学的“羲之”生意机精度达到0.6纳米，21点游戏官网已有制品机参加测试。

2023年，日本将23种半导体制造建树纳入出口经管，试图借重好意思国对中国酿成期间顽固。效能等于，中国光刻胶的国产化率从2020年的15%，一起攀升至2024年的32%，2025年有望突破40%。南大光电的ArF光刻胶、彤程新材的KrF胶，正在一步步突破日本企业的把持。当“断供”的禁锢倒逼出“替代”的才智时，顽固者的筹码就运行贬值了。

如今，日媒的报说念口风已变，短短三年，日本方面改口了！致使出现了“日本风光卖”的声息。这背后的潜台词概况是：与其失去所有这个词阛阓，不如在还有影响力的时刻寻求诱骗。

三年前，日本光刻胶巨头JSR的CEO埃里克·约翰逊曾断言：“即使中国拿到一份对于化学因素细节的论文，中国东说念主也造不出EUV（极紫外光刻）才智！”三年后的今天，相似是日本媒体《日经亚洲》却报说念称，中国很有可能成为继荷兰和日本之后，巨匠第三个能我方造全套光刻机的国度 。

从斩钉截铁的“弗成能”到审慎评估的“很有可能”，这180度的魄力滚动背后，是中国半导体产业在高压下迸发出的惊东说念主能量：咱们不仅能造光刻机，改日还能造出更先进的光刻机。